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PECVD氣相沉積系統(tǒng)

石墨烯制備設備

半導體PECVD設備

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卷對卷PECVD石墨烯制備設備參考價：89560
卷對卷PECVD石墨烯制備設備主要應用于計算機和智能手機屏幕，超輕、柔性的太陽能電池，以及新型的發(fā)光設備和其他薄膜電子產(chǎn)品
型號： CY-OTF-12... 廠商性質(zhì)：生產(chǎn)商所在地：鄭州市對比

等離子增強化學氣相沉積PECVD設備PECVD系統(tǒng)等離子體CVD設備平板式PECVD

2025/11/18 9:53:09314
半導體PECVD設備氣相沉積系統(tǒng) 參考價：98000
半導體PECVD設備氣相沉積系統(tǒng)適用于在光學玻璃、硅、石英以及不銹鋼等不同襯底材料上沉積氮化硅、非晶硅和微晶硅等薄膜，成膜質(zhì)量好，針孔較少，不易龜裂，適用于制備...
型號： CY-PECVD-... 廠商性質(zhì)：生產(chǎn)商所在地：鄭州市對比

平板式PECVDPECVD設備PECVD系統(tǒng)等離子體CVD設備半導體PECVD設備

2025/11/17 17:36:45429
單溫區(qū)旋轉(zhuǎn)PECVD石墨烯制備系統(tǒng) 參考價：面議
單溫區(qū)旋轉(zhuǎn)PECVD石墨烯制備系統(tǒng)用于制備石墨烯，是一種 “低溫、直接生長" 的技術(shù)。它尤其適合在非金屬基底（如絕緣襯底）上生長石墨烯，避免了從金屬催化劑轉(zhuǎn)移的...
型號： CY-PECVD-... 廠商性質(zhì)：生產(chǎn)商所在地：鄭州市對比

PECVD設備PECVD系統(tǒng)石墨烯生長PECVD晶圓鍍膜設備PECVD氮化硅薄膜PECVD

2025/11/17 17:34:48240
卷對卷式太陽能電池片PECVD氣相沉積系統(tǒng) 參考價：28000
卷對卷式太陽能電池片PECVD氣相沉積系統(tǒng)是等離子增強型化學氣相沉積設備（PECVD），并加裝了收放卷裝置。本設備可用于線材的連續(xù)化熱處理工藝中，如碳纖維制備、...
型號： CY-OTF-12... 廠商性質(zhì)：生產(chǎn)商所在地：鄭州市對比

太陽能電池片PECVD光學薄膜PECVDLED PECVD設備半導體PECVD設備晶圓鍍膜設備PECVD

2025/11/17 17:33:00241
二氧化硅薄膜沉積等離子增強CVD系統(tǒng) 參考價：35000
二氧化硅薄膜沉積等離子增強CVD系統(tǒng)由等離子發(fā)生器，三溫區(qū)管式爐、單溫區(qū)管式爐、射頻電源、真空系統(tǒng)組成。等離子增強CVD系統(tǒng)為了使化學反應能在較低的溫度下進行，...
型號： CY-PECVD5... 廠商性質(zhì)：生產(chǎn)商所在地：鄭州市對比

二氧化硅薄膜沉積設備氮化硅薄膜PECVD半導體PECVD設備晶圓鍍膜設備PECVD硅基薄膜沉積

2025/11/17 17:30:38261
光學薄膜PECVD等離子增強型CVD系統(tǒng) 參考價：26000
CY-PECVD50R-1200-Q是一款光學薄膜PECVD等離子增強型CVD系統(tǒng)。此系統(tǒng)由150W射頻電源、單溫區(qū)管式爐、3通道質(zhì)子流量計控制系統(tǒng)、性能優(yōu)異的...
型號： CY-PECVD5... 廠商性質(zhì)：生產(chǎn)商所在地：鄭州市對比

光學薄膜PECVDLED PECVD設備管式PECVDPECVD設備半導體PECVD設備

2025/11/17 17:28:24244
PEALD等離子增強原子層沉積系統(tǒng) 參考價：268000
PEALD等離子增強原子層沉積系統(tǒng)是一種的薄膜沉積技術(shù)，結(jié)合了等離子體和原子層沉積（ALD）的優(yōu)點，以實現(xiàn)更高的薄膜質(zhì)量、更低的沉積溫度和更廣泛的材料兼容性。P...
型號： CY-PEALD-... 廠商性質(zhì)：生產(chǎn)商所在地：鄭州市對比

半導體PECVD設備氮化硅薄膜PECVD二氧化硅薄膜沉積設備晶圓鍍膜設備PECVD太陽能電池片PECVD

2025/11/17 16:17:55369
三溫區(qū)PECVD氣相沉積石墨烯制備系統(tǒng) 參考價：54000
三溫區(qū)PECVD氣相沉積石墨烯制備系統(tǒng)用于制備石墨烯，是一種 “低溫、直接生長" 的技術(shù)。它尤其適合在非金屬基底（如絕緣襯底）上生長石墨烯，避免了從金屬催化劑轉(zhuǎn)...
型號： CY-PECVD5... 廠商性質(zhì)：生產(chǎn)商所在地：鄭州市對比

石墨烯生長PECVDLED PECVD設備光學薄膜PECVD硅基薄膜沉積太陽能電池片PECVD

2025/11/17 16:15:27298
晶圓鍍膜設備PECVD氣相沉積參考價：102000
晶圓鍍膜設備PECVD氣相沉積在超大規(guī)模集成電路、光電器件、MEMS等領(lǐng)域具有廣泛的應用
型號： CY-PECVD-... 廠商性質(zhì)：生產(chǎn)商所在地：鄭州市對比

晶圓鍍膜設備PECVDPECVD氣相沉積半導體PECVD設備二氧化硅薄膜沉積設備太陽能電池片PECVD

2025/11/17 16:13:38272
熱陰極直流等離子體化學氣相沉積系統(tǒng) 參考價：1000
熱陰極直流等離子體化學氣相沉積系統(tǒng)（DCCVD）是在常規(guī)冷陰極輝光放電基礎上發(fā)展起來的，主要用于金剛石單晶或多晶膜的沉積生長
型號： CY-DCCVD 廠商性質(zhì)：生產(chǎn)商所在地：鄭州市對比

等離子體化學氣相沉積設備

2025/11/17 7:28:44233
PECVD?旋轉(zhuǎn)等離子加強CVD系統(tǒng) 參考價：5800
本產(chǎn)品為PECVD?旋轉(zhuǎn)等離子加強CVD系統(tǒng)。PECVD-R?旋轉(zhuǎn)等離子加強CVD設備十分適合在氣氛保護的環(huán)境下連續(xù)對粉末材料用CVD方法進行包裹和修飾。
型號： CY-PECVD6... 廠商性質(zhì)：生產(chǎn)商所在地：鄭州市對比

PECVD設備PECVD系統(tǒng)等離子體CVD設備等離子增強化學氣相沉積系統(tǒng)半導體PECVD設備

2025/11/17 7:26:21206
PECVD化學氣相沉積系統(tǒng) 參考價：36500
PECVD化學氣相沉積系統(tǒng)采用等離子體增強型化學氣相沉積技術(shù)，能夠利用高能量等離子體促進反應過程，有效提升反應速度，降低反應溫度
型號： CY-PECVD-... 廠商性質(zhì)：生產(chǎn)商所在地：鄭州市對比

半導體PECVD設備氮化硅薄膜PECVD二氧化硅薄膜沉積設備晶圓鍍膜設備PECVD太陽能電池片PECVD

2025/11/16 21:37:55278
半導體PECVD設備參考價：面議
半導體PECVD設備采用等離子體增強型化學氣相沉積技術(shù)，能夠利用高能量等離子體促進反應過程，有效提升反應速度，降低反應溫度。適用于在光學玻璃、硅、石英以及不銹鋼...
型號： CY-PECVD-... 廠商性質(zhì)：生產(chǎn)商所在地：鄭州市對比

半導體PECVD設備

2025/11/16 21:35:39359
PE-HPCVD等離子增強物理化學氣相沉積參考價：45000
PE-HPCVD等離子增強物理化學氣相沉積由一臺雙溫區(qū)管式爐，一套鎢絲蒸發(fā)源，一套等離子發(fā)生裝置以及一套質(zhì)量流量計組成。HPCVD等離子增強物理化學氣相沉積適用...
型號： CY-PE-HPC... 廠商性質(zhì)：生產(chǎn)商所在地：鄭州市對比

化學氣相沉積平板式PECVD管式PECVDPECVD設備PECVD系統(tǒng)

2025/11/16 21:33:38229
雙溫區(qū)CVD化學氣相沉積系統(tǒng) 參考價：6500
雙溫區(qū)CVD化學氣相沉積系統(tǒng)是一種常用的薄膜制備技術(shù)，通過在高溫下將氣體反應物質(zhì)與基底表面反應，形成薄膜
型號： CY-PECVD1... 廠商性質(zhì)：生產(chǎn)商所在地：鄭州市對比

PECVD設備PECVD系統(tǒng)等離子體CVD設備管式PECVD半導體PECVD設備

2025/11/16 21:31:28258
半導體CVD設備參考價：60000
半導體CVD設備采用等離子體增強型化學氣相沉積技術(shù)，基本溫度低，沉積速率快，在光學玻璃、硅、石英以及不銹鋼等不同襯底材料上沉積氮化硅、非晶硅和微晶硅等薄膜。
型號： CY-PECVD-... 廠商性質(zhì)：生產(chǎn)商所在地：鄭州市對比

等離子增強化學氣相沉積設備化學氣相沉積設備增強化學氣相沉積設備半導體CVD設備等離子化學氣相沉積設備

2025/11/16 13:00:50437

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